错过上诉期限 中国新建驻英大使馆计划暂停

由于错过向英国伦敦区议会上诉的期限，中国已暂停在伦敦兴建新大使馆的计划。图为中国驻英大使馆现址。（图／东网）

据英国媒体报导，曾因购入英国皇家铸币厂（Royal Mint Court）旧址准备用来建造新的中国驻英大使馆引发争议案，目由于中国政府已经错过向英国伦敦区议会上诉的期限，意味着中国已暂停在伦敦兴建新大使馆计划。中国外交部已敦促英国政府希望协助中国建设新使馆，并在互惠互利的基础上找到建新使馆的解决方案。

据《东网》指出，中国于2018年宣布计划在伦敦塔附近建造新使馆，得到英国规划官员批准。但伦敦塔所在的陶尔哈姆莱茨区议会，去年底以安全和对居民影响为由推翻决定，并称中国可以就区议会的决定提出上诉，或在日后提交新申请。

据知情人士透露，中国错过本周四的最后上诉期限，转为直接找英国政府要求协助，希望英方承诺一旦中国重新提交规划申请，将会获得英国政府介入协助。

报导说，中国原以约2.5亿英镑（约24.79亿港元）在伦敦的英国皇家铸币局旧址购地，原计划建造面积2.2万平方公尺的新大使馆，几乎是中国驻美国大使馆面积的2倍，如果建成将成为中国驻欧洲最大的使馆。

知情人士透露，对于英政府未能帮助获得规划许可，中国官员曾向英方表示失望。英国政府发言人表示，英国规划制度公开透明，规划事项通常由地方议会决定，申请人可以提出上诉。