京东方申请探测基板等专利，实现对X射线成像的优化校正

金融界2024年11月27日消息，国家知识产权局信息显示，北京京东方光电科技有限公司申请一项名为“探测基板、X射线成像系统及图像校正方法与装置”的专利，公开号CN 119023709 A，申请日期为2023年5月。

专利摘要显示，一种探测基板、X射线成像系统及图像校正方法与装置，包括自动曝光检测单元、控制单元、栅极驱动单元和数据读取单元，自动曝光检测单元配置为检测到开始曝光时，发送第一通知信号至控制单元；控制单元配置为在扫描时间段，输出第一信号与第二信号至栅极驱动单元；当接收到第一通知信号时，输出第一信号至当前帧结束，中断输出第二信号；获取数据读取单元在曝光结束后的第一个扫描时间段读取的数据，根据获取的数据生成初始图像；栅极驱动单元配置为在扫描时间段，根据第一信号与第二信号控制多个探测单元的启动顺序；数据读取单元配置为在扫描时间段，根据数据读取信号读取数据线的数据。

本文源自：金融界

作者：情报员