南宝、晶呈科 积极拓展新市场

晶呈科指出，主要用于3D Nand Flash及先进制程奈米的六氟丁二烯（C4F6）与去光阻液今年均有新产能开出。去光阻液目前第一条288吨量产线3月已完成，持续接单中，目标下半年满载。

南宝过往一年维持性的资本支出约3亿至5亿元，今年则扩大至11亿～13亿元，主因大陆、越南、印度都有新投资计划。

晶呈科一厂已完成C4F6二级制造设备建置，年产能100吨，今年将陆续出货贡献营收；二厂规划四级制造生产氟氮（F2/N2）也完成。去光阻液接获包含记忆体、电源管理晶片、车用晶片、晶圆代工业者订单。