赛默飞：新品发布会

伴随着半导体工业技术与工艺的不断突破以及产能的持续增加，尤以晶圆制造厂为例，PFA物性失效分析的需求量正与日俱增。如何更加高效率、高质量、高精度、低成本地助力半导体晶圆广进行研发和良率提升等工作，已成为失效分析实验室亟待解决的问题。赛默飞推出全新Hlios 6 HD双束电镜以及Merios 6透射电镜将有效帮助半导体客户克服这些实际挑战，满足高产能、高质量、低成本的测试分析需求。