四川中星电子申请一种用于薄膜电容器的涂硅装置专利，提高电极涂油时的处理效率

金融界2024年11月26日消息，国家知识产权局信息显示，四川中星电子有限责任公司申请一项名为“一种用于薄膜电容器的涂硅装置”的专利，公开号 CN 119016273 A，申请日期为2024年10月。

专利摘要显示，本发明提出了一种用于薄膜电容器的涂硅装置，涉及电容器制造设备技术领域，该结构包括涂硅结构，涂硅结构包括成对设置的两个安装座，安装座内均设有气囊，两个气囊之间设有运动通道，两个气囊相对的侧壁上均开设有导油槽，气囊内沿其轴向开设多个与导油槽连通的排液孔，气囊的两端均具有向内凹陷的沉槽；安装座内设有用于控制气囊的两端沿其轴向做向内凹陷运动的推动结构，气囊内均设有对其内壁进行支撑的支撑机构，两个气囊相互靠近使导油槽围合为呈环形的通槽，可将电容器的电极需要进行涂抹硅油的部分进行包裹并一次涂抹完毕；气囊的长度在推动结构的控制下用于适配不同电容器电极并进行涂抹操作，提高电极涂油时的处理效率。

本文源自：金融界

作者：情报员