武汉华星光电申请阵列基板及显示面板专利，提高晶体管迁移率

金融界 2024 年 10 月 31 日消息，国家知识产权局信息显示，武汉华星光电半导体显示技术有限公司申请一项名为“阵列基板及显示面板”的专利，公开号 CN 118841420 A，申请日期为 2024 年 8 月。

专利摘要显示，本申请公开了一种阵列基板及显示面板，该阵列基板包括衬底、设于衬底一侧的第一电极、设于第一电极远离衬底一侧表面的有源部、设于有源部远离衬底一侧表面的第二电极、及设于第二电极远离衬底一侧的栅极，栅极与有源部至少部分重叠设置，第一电极、有源部、第二电极及栅极为闭环结构；本申请通过将第一电极、有源部、第二电极及栅极设置为闭环结构，且第一电极、有源部及第二电极层叠设置，以有源部的厚度为晶体管的沟道长度，减小了晶体管的沟道长度，同时晶体管的沟道宽度变更为有源部的内侧环和外侧环的长度之和，增加了晶体管的沟道宽度，提高了晶体管的迁移率。

本文源自：金融界

作者：情报员