光刻机(胶)概念26日主力净流出1.44亿元，晶方科技、南大光电居前

6月26日，光刻机(胶)概念上涨3.11%，今日主力资金流出1.44亿元，概念股69只上涨，5只下跌。

主力资金净流出居前的分别为晶方科技（8354.53万元）、南大光电（2207.33万元）、腾景科技（1718.55万元）、鼎龙股份（1636.95万元）、百川股份（1484.72万元）。

本文源自：金融界

作者：主力情报