光刻机(胶)概念5日主力净流出3.27亿元,晶方科技、芯源微居前
7月5日,光刻机(胶)概念上涨0.21%,今日主力资金流出3.27亿元,概念股43只上涨,32只下跌。
主力资金净流出居前的分别为晶方科技(5585.69万元)、芯源微(3121.63万元)、南大光电(2418.64万元)、张江高科(2156.7万元)、彤程新材(2154.68万元)。
本文源自:金融界
作者:主力情报
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