光刻机(胶)概念5日主力净流出3.27亿元，晶方科技、芯源微居前

7月5日，光刻机(胶)概念上涨0.21%，今日主力资金流出3.27亿元，概念股43只上涨，32只下跌。

主力资金净流出居前的分别为晶方科技（5585.69万元）、芯源微（3121.63万元）、南大光电（2418.64万元）、张江高科（2156.7万元）、彤程新材（2154.68万元）。

本文源自：金融界

作者：主力情报