企业永续奖颁奖 南亚科技总经理李培瑛荣获「杰出人物奖」

李培瑛投身半导体IC科技产业30余年，是半导体重大发明「钨及氮化钛等难熔金属导线技术」（W/TiN，美国专利US5,760,475）及「多层导线一体成型镶嵌技术」（Multiple level interconnect, Dual Damascene，美国专利US4,962,058）等创新专利的主要发明人，此技术成为CMOS元件微缩限制的重大突破之一，成为全球半导体生产制造厂的必要制程，对半导体发展贡献卓着。

李培瑛亦于2002年主导南亚科技与德国记忆体大厂英飞凌「共同研发」（Joint Development）及「合作投资制造公司」（Joint Venture）相辅相成的整体合作模式，创立华亚科技，将全球记忆体关键元件的制造技术引进台湾。

李培瑛带领南亚科技进行策略转型，追求创新研发及技术自主，开发40多个DRAM产品，同时扩大客户群，发展消费性、手机、伺服器、资料中心等市场应用，创造连续九年获利的佳绩。李培瑛强化创新专业经营团队及培育研发人才，已经开发出10奈米级制程及产品技术，并筹建新厂与先进研发中心，将半导体技术根留台湾。

李培瑛荣获第五届「全球企业永续杰出人物奖」，在产业永续发展的贡献与影响力上获得国际评审的一致肯定。未来，李培瑛将持续带领全体员工，携手全球伙伴，朝永续发展目标迈进。