天岳先进取得去除碳化硅表面残留的清洁剂及其应用和清洁方法专利，有效提升碳化硅产品产能

金融界2024年7月19日消息，天眼查知识产权信息显示，山东天岳先进科技股份有限公司取得一项名为“一种去除碳化硅表面残留的清洁剂及其应用和清洁方法“，授权公告号CN202410388925.1，申请日期为2024年4月。

专利摘要显示，本发明涉及碳化硅表面清洗技术领域，具体涉及一种去除碳化硅表面残留的清洁剂及其应用和清洁方法。清洁剂包括第一成分、pH调节剂和水；以占清洁剂质量的百分比计，第一成分包括6%~8%的3‑甲氧基‑3‑甲基丁醇、8%~10%的异构醇醚、10%~12%的表面活性剂和4%~6%的分散剂；pH调节剂含量为调节清洁剂的pH值为9~10的所需量；余量为水。本发明提供的去除碳化硅表面残留的清洁剂及清洁方法能够有效去除碳化硅产品表面因抛光处理附着的磨料、抛光蜡等脏污，提升碳化硅产品良率，刷洗时间由200秒/片缩短至120秒/片，有效提升产能。

本文源自：金融界

作者：情报员