統懋半導體新市廠汙染土壤地下水 環境部公告解除列管

统懋半导体新市厂土壤及地下水受有机溶剂污染，5年前被公告为污染整治场址，经完成污染改善且验证合格，环境部今天公告解除列管。图／南市环保局提供

统懋半导体新市厂土壤及地下水含氯有机污染物、氟盐超过管制标准，2018年被公告为污染整治场址，台南市环保局今宣布，新市厂已在去年6月完成污染改善且经验证合格，环境部今天公告解除列管。

台南市环保局表示，为厘清工业区地下水污染整治责任，2016年办理新市工业区土壤及地下水污染调查，发现土壤及地下水受有机溶剂污染，依规定于2018年3月28日公告为土壤及地下水污染控制场址。历经相关调查及应变必要措施，环境部环管署同年8月15日公告为土壤及地下水污染整治场址，并处污染行为人统懋半导体股份有限公司15万元罚锾。

环保局长许仁泽表示，除要求该公司提出整治计划进行改善，整治期间定期邀集专家学者召开会议，督促行为人改善及预防2次污染。该公司为显企业责任，原核定5年改善期程，在环保局严格监督下，提早2年完成污染改善工作，花费整治费用2千6百万元，

环保局去年10月进场验证，土壤及地下水污染物浓度已低于管制标准，且经环保署同意解除土壤及地下水污染整治场址列管，完成土地活化面积约2万平方公尺。

市长黄伟哲表示，工业区的存在可带动区域经济的发展、增加就业机会，但密集的产业聚落使得污染潜势增加；除政府机关主动调查与积极监督外，工业区也应办理土壤及地下水品质监测，建立预警机制，确保工业土地永续利用，共同维护环境品质与民众健康。