武汉高芯科技申请一种无快门非均匀校正方法及系统专利，实现对红外图像非均匀性校正

金融界2025年1月7日消息，国家知识产权局信息显示，武汉高芯科技有限公司申请一项名为“一种无快门非均匀校正方法及系统”的专利，公开号 CN 119245842 A，申请日期为 2024 年 9 月。

专利摘要显示，本发明涉及一种无快门非均匀校正方法及系统，其包括如下步骤：根据红外探测器端本底图像、红外镜头端本底图像获取本底图像的起始偏移参数；根据红外成像设备从冷机状态到热平衡状态时，红外探测器输出的红外图像数据变化量获取本底图像的增益偏移参数；确定红外成像设备从冷机状态到热平衡状态过程中，红外成像设备的红外探测器获取的当前本底图像的残留非均匀性，且根据该残留非均匀性的变化量获取本底图像的过程偏移参数；对当前红外图像进行非均匀性校正。本发明可以将非均匀性本底图像的校正分解为起始偏置参数、增益偏置参数以及过程偏置参数，以计算出非均匀校正的理想本底图像，以在无快门校正条件下，实现对红外图像的非均匀性校正。

天眼查资料显示，武汉高芯科技有限公司，成立于2013年，位于武汉市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本33800万人民币，实缴资本33800万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉高芯科技有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目48次，知识产权方面有商标信息22条，专利信息340条，此外企业还拥有行政许可19个。

本文源自：金融界

作者：情报员