中移（苏州）软件技术申请光场分布优化方法专利，可实现高均匀性的光场分布

金融界2024年11月14日消息，国家知识产权局信息显示，中移（苏州）软件技术有限公司申请一项名为“光场分布优化方法、装置、设备、存储介质和程序产品”的专利，公开号 CN 118940503 A，申请日期为 2024 年 7 月。

专利摘要显示，本发明提供了一种光场分布优化方法、装置、设备、存储介质和程序产品，涉及光学技术领域，所述光场分布优化方法，包括：获取板上芯片封装 COB 光芯片的初始结构模型，初始结构模型用于指示 COB 光芯片的光场能量经过预设自由曲面映射到预设目标面的初始光场能量分布获取初始光场能量分布和预设目标面上的预设光场能量分布之间的光场能量偏差；根据光场能量反馈算法 LEFA 和光场能量偏差，对初始结构模型进行优化，得到优化后的结构模型，优化后的结构模型用于指示 COB 光芯片的光场能量经过预设自由曲面映射到预设目标面的优化后的光场能量分布。本发明可以实现高均匀性的光场分布需求，且计算流程简单、计算速度快。

本文源自：金融界

作者：情报员