新美光申请铁电膜材料及其制备方法和应用专利，提升铁电膜材料的储能密度和储能效率

金融界2024年11月29日消息，国家知识产权局信息显示，新美光（苏州）半导体科技有限公司申请一项名为“铁电膜材料及其制备方法和应用”的专利，公开号CN 119038992 A，申请日期为2024年10月。

专利摘要显示，本申请实施例涉及一种铁电膜材料及其制备方法和应用，铁电膜材料的化学通式为（1‑x）Na0.5Bi0.5TiO3‑xBi（Mg0.5Zr0.5）O3，其中，0

本文源自：金融界

作者：情报员