应用材料公司取得具有多个射频网孔以控制等离子体均匀性的静电卡盘专利
金融界2024年11月1日消息，国家知识产权局信息显示，应用材料公司取得一项名为“具有多个射频网孔以控制等离子体均匀性的静电卡盘”的专利，授权公告号 CN 111837231 B，申请日期为 2019 年 2 月。
本文源自：金融界
作者：情报员
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