BENEQ、龙翩 办ALD光学镀膜研讨

BENEQ亚太区业务处长Mikko（右三）、BENEQ台湾区业务处长谢祖德（右一）与龙翩真空董事长杨吉祥（右四）及总经理陈景龙（右五）等多位贵宾于活动中合影。图／李淑慧

芬兰BENEQ与台湾真空镀膜设备大厂-龙翩真空科技于4月20日联手举办「ALD光学镀膜研讨会」，会中邀集台湾各大光学厂商齐聚一堂分享国际间前瞻性产品应用与高端制程技术的开发进展，期借此业界交流拓展ALD技术与量产设备在台湾光学市场，开拓更多的合作发展机会。

BENEQ自1984年起开始使用原子层沉积ALD进行世界上首次工业生产。今日BENEQ已经成为全球领先的ALD设备生产商，提供种类广泛的技术产品和研发服务，并致力于将原子层沉积技术投入到各项研究中，亦通过工业ALD解决方案推动技术发展的大趋势。

原子层沉积（Atomic Layer Deposition，ALD）系借由前驱物气体与基板表面形成自我局限反应，进行单层及多层原子薄膜沉积，并具备大面积、高阶梯覆盖率、高厚度均匀性、低温制程及原子级膜厚控制等优点。

BENEQ ADL半导体业务处长谢祖德表示，原子层沉积（ALD）技术如今备受重视，主要受惠于积体电路工业的奈米制程发展对ALD的需求增加，其中已有多项关键薄膜制程从传统CVD或PVD方式改由ALD取代，而目前除了半导体以外，许多产业及领域皆有元件微型化的趋势，近年看到原子层沉积开发更接近产业需求等级的12吋量产型ALD设备外，在光电领域和生医材料等领域，例如：照相机模组、车载、自驾、激光雷达、VR及医材等，从发展趋势来看未来几年将有极佳的应用机会。

龙翩真空科技董事长杨吉祥表示，龙翩自1991年成立以来即积极于真空镀膜机之开发与制造，致力为客户建构完整的「Turn-key」服务，从产品设计、开发、设备制造、生产规划、操作人员训练及制程设计咨询等完整Total-Solution服务，于光学产业界深耕多年：每每因应产业发展趋势之需，与业界共同先冲锋陷阵并建立浓厚革命情感，提供该产业更新的技术与相关制程供业界使用，充分发挥产业链重要的环节。

目前龙翩真空营运主轴：真空蒸镀／溅镀设备制造、薄膜制程技术服务、蓝芽温度监控装置、真空配件、成膜辅耗材销售、Olympus光学检测仪器等总代理；就在西洋情人节2月14日，龙翩与芬兰BENEQ结为关系伙伴，从今往后，龙翩将在耕耘多年平台上提供ALD设备服务及销售。

BENEQ和龙翩真空今后将合作开发和积极推广ALD原子层沉积镀膜技术，应用于台湾光学市场的高端曲率镜片；ALD技术为最具挑战性的结构提供均匀的批覆薄形镀膜层，极适合高端光学应用，龙翩真空身为业界先驱应为产业未来发展及应用全力以赴。