晶呈科：黄光应用成长显著 下半年渗透率提升、新品推出

晶呈科指出，特殊气体持续新品项研发，除二厂试产线规划及建置，目前Laser gas/氖混气市占率已超过双位数，并持续扩大中。去光阻液（Stripper）也强化新品项研发，二厂量产线规划与建置，已接获新客户订单，超过双位数客户洽谈样品测试中。

晶呈科主为半导体制程特殊气体制造、特殊气体应用加工服务（晶圆重生），及复合金属材料基板制造（铜磁晶片及关联产品）。第二季获利季减34％，EPS 0.77元；上半年EPS 1.94元，年增23.57％。

晶呈科指出，目前出货以内销为主，约95％，以黄光应用产品成长最大。二厂持续进行试产线规划及建置，9月进行优化利用率；三厂已于4月取得土地，正进行产业规划与建置中。

此外，晶圆重生持续开发干式除膜配方、优化除膜制程、开发海外市场。铜磁晶片及画素封装体（CMuLED）部分，CMuLED RGB晶粒及0404 TFE画素封装体计划第三季试产。至于CMuLED 8K 110吋显示屏示范样品也将于第三季产出，VCSEL（LIDAR模组内主要元件）持续测试中。

对于今年营运能否维持333目标，亦即营收成长三成、先进制程占比逾三成，毛利率超过三成。晶呈科认为，因营运多属先进制程，毛利三成、先进制程三成目标达成无虞。营收将透过渗透率提升、新品推出，强化能量，仍审慎乐观看待。