陆晶片公司遭控窃取商业机密 美法院判晋华无罪

大陆晶片制造商晋华被控窃取美光商业机密案，美国旧金山法院最新判决无罪。（shutterstock）

大陆晶片制造商晋华积体电路公司被美国司法部控告窃取商业机密等罪一案，当地时间27日获旧金山市法院认定无罪，原因是检方未能证明晋华盗用美光的数据。彭博更形容本次判决意义重大，代表了美国司法部打击大陆盗窃智慧财产权的行动遭遇挫折。

据香港《经济日报》报导，美国司法部在2018年控告有政府背景的晋华及联电子公司与3名个人，合谋窃取美光价值高达87.5亿美元的商业机密。据当时首次立案时的声明，如果晋华被定罪，可能会面临罚款并被命令没收晶片，以及凭盗窃技术所获得的收入。美国商务部同年再以国安为由，把晋华列入「实体清单」，限制其与美企交易。

回顾去年5月，美光产品因涉网路安全问题被禁止用在大陆的基础设施上。年底，美光宣布与晋华达成和解协议，双方将在全球范围内各自撤销对对方的诉讼。

而就该判决，目前大陆驻华盛顿大使馆、旧金山市检察官办公室，以及晋华相关负责人均未回应。