中芯5奈米良率恐不到30%

大陆晶圆代工龙头中芯传出正在筹组3奈米制程研发团队，而且可能在今年量产5奈米，为华为打造新一代手机晶片。不过，业界认为，受美国禁令影响，中芯目前仅有深紫外光（DUV）曝光机，代表制程愈向前推进，良率将愈低，量产5奈米良率恐不到三成，3奈米良率将更低。

业界分析，良率差不代表不能做，但意味根本不具成本与规模效益，生产会很吃力，要达到商用等级的良率几乎是「不可能的任务」。

外电报导，中芯宣布成功量产7奈米制程后，提供给华为具备先进制程的手机晶片，预计今年将进一步延伸至量产5奈米制程产品，目前更筹组3奈米制程团队，有机会在今年底前完成设计定案，力拚未来能量产3奈米先进制程。

不过，业界点出主要关键，中芯目前没有可提供先进制程量产使用的极紫外光（EUV）曝光机，仅有先前取得的大量第二代DUV曝光机台，曝光精准度远不及EUV设备，且制程愈先进，所需的光罩数就更多，成本也愈高。