没ASML机台也没差？大陆传打造5奈米晶片 最新技术曝光

大陆力拚突围自产5奈米晶片。（示意图/达志影像/shutterstock）

美国持续加码对大陆晶片禁令，这场晶片大战持续升温，但根据南华早报报导，大陆在新技术上已悄悄取得进展，以减少对先进ASML曝光机的依赖，让晶片制程继续突围到5奈米。

报导引述消息人士说法指出，大陆本土半导体设备龙头北方华创科技集团，在3月开始对光刻系统进行初步研究，大陆本土半导体工具制造商正在尝试变通办法，在没有荷兰巨头ASML最新设备的情况下生产先进晶片，并打造出5奈米晶片制程。报导称这项突破可能会实现，并挫败美国遏制大陆晶片制造能力的企图。

报导提到，大陆部分业者已取得初步研究进展，除了北方华创，华为在上个月申请的专利，其中「自对准四重成像」（SAQP）技术可以在矽晶圆上多次蚀刻线路，并加倍地提高电晶体密度和晶片性能。大陆企业打算借由SAQP技术，让晶片实质上达成5奈米的运算能力。

大陆希望靠着SAQP技术突破，利用先进程度不亚于EUV的「深紫外光微影制程」（DUV）曝光机以生产5奈米晶片。