美國晶片管控引ASML吐槽：迫大陸廠商造出更先進曝光機

荷兰晶片制造设备大厂艾司摩尔（ASML）CEO富凯（Christophe Fouquet）公开表示，美国严厉的晶片管控规定，只会逼迫大陆厂商造出更先进曝光机。 （路透）

荷兰晶片制造设备大厂艾司摩尔（ASML）CEO富凯（Christophe Fouquet）公开表示，美国严厉的晶片管控规定，只会逼迫大陆厂商造出更先进曝光机。

快科技报导，富凯指出，多年来，公司都不用担心设备的去向会受到政治限制，但突然之间，这却变成了全世界最重要的话题之一。

过去一段时间，美国一直在向荷兰施压，以阻止大陆获得关键的半导体技术。去年，荷兰政府宣布新的半导体设备出口管制措施，主要针对先进制程的晶片制造技术，艾司摩尔首当其冲。

根据艾司摩尔今年1月1日发布的声明，荷兰政府撤销的是2023年颁发的NXT:2050i和NXT:2100i曝光系统的出口许可证，「此禁令将影响少数在华客户」。

为进一步遏制大陆的科技发展，美国日前还要求荷兰政府对大陆境内部分艾司摩尔设备的维修服务增加限制。

大陆已连续三个季度成为艾司摩尔最大市场，今年第1季，对华出口占到艾司摩尔系统销售额的49%。

艾司摩尔十分担忧对华出口进一步受限。富凯甚至表示，限制措施会让大陆更有动力开发自己的高端技术（曝光机），「施加的限制越多，就越会促使对方自力更生。」

华尔街见闻报导，这一点已在去年表现出来，当时华为发布了新款智慧型手机Mate 60 Pro，使用了先进的大陆国产晶片，而美国限制措施要阻止大陆制造的就是这种晶片。

尽管美国商务部长雷蒙多（Gina Raimondo）在4月称华为的晶片比美国落后好几年，但Mate 60 Pro的推出，还是让美国官员对美国出口管制措施的有效性忧心忡忡。

如果不使用艾司摩尔的高阶设备，的确也有可能制造出像华为所用的这种先进晶片，但华为的工艺成本较高，而且难以大规模生产。

富凯面临的另一个挑战，是如何维持艾司摩尔在晶片生产设备领域的主导地位。

巴克莱银行（Barclays）分析师Simon Coles说：「艾司摩尔拥有全球最先进的晶片生产工具，但人们会问，『下一个最先进的设备是什么？』」

艾司摩尔的最新设备名为高数值孔径极紫外光（High-NA EUV）微影设备；数值孔径是一个用来衡量聚光能力的指标。英特尔（Intel）最先入手了一台；这种新设备花费3.81亿美元左右。

该公司已表示，下一次技术飞跃可能是一种可以在晶片上打印更小特征的机器，该公司称之为超级数值孔径（Hyper NA）。富凯说，客户在未来几年不会需要这种带有未来主义色彩的设备。

在那之前，艾司摩尔料将受益于市场对较小、性能较强晶片日益成长的需求，以及美国和欧洲旨在大力促进晶片制造的支出。