应材全新光罩蚀刻系统 领先业界

应用材料公司光罩蚀刻产品处总经理瑞欧．耶拉曼奇里(Rao Yalamanchili)表示：「我们的 Tetra Z 系统是最先进的光罩蚀刻技术，运用精密材料工程及电浆反应动力学的的精进科技，扩充了 193奈米微影术的应用。使用193奈米波长来制作10奈米或7奈米的图案，需要各种最佳化技术，包括浸润与多重曝影，高度仰赖光罩的运用。蚀刻技术是制造光罩的关键；Tetra Z 系统的与众不同之处，在于能为新一代光学光罩的蚀刻，提供所需的精确度，制作先进节点设计的图案。」

应用材料公司针对进阶的铬、矽化钼 (MoSI)、硬质光阻层和石英 (熔矽石) 蚀刻应用，开发了 Tetra Z 工具，以制造先进的二元式与相位移光罩 (phase-shift masks)。优越的系统展现了持续的技术创新与前所未见的线宽 (CD) 效能，将浸润式微影术延伸应用于四重曝影与先进的解析度强化技术。用以确保图形转移保真度的重要功能，包括了针对所有特征尺寸进行均匀的线性精密蚀刻，以及近乎零缺陷的图案密度。

卓越的CD效能结合高蚀刻选择比，得以运用更薄的光阻，在重要的装置层上制作更小的光罩CD图案。可控制的CD偏差功能，扩展了系统的弹性，能满足客户的特定需求。独一无二的石英蚀刻深度控制技术，可确保精密的相位角度，也能让客户使用交替式光圈相位移光罩与无铬相位微影术，推动积体电路的尺寸缩放制程。种种的关键技术进展，来自于各种系统改良，包括反应室的设计、电浆稳定性、离子与自由基控制、流量与压力控制，以及即时制程监控。

过去十年来，全球大多数的光罩制造商皆选用应用材料公司的 Tetra 系统，来进行高阶光罩的蚀刻。