龙图光罩申请掩模版刻蚀专利，提高掩模版刻蚀的效率和精度

金融界 2024 年 7 月 19 日消息，天眼查知识产权信息显示，深圳市龙图光罩股份有限公司，珠海市龙图光罩科技有限公司申请一项名为“掩模版刻蚀方法、装置、设备以及存储介质“，公开号 CN202410797921.9 ，申请日期为 2024 年 6 月。

专利摘要显示，本申请涉及半导体制造技术领域，所述掩模版刻蚀装置包括：掩模版支撑台，掩模版固定在掩模版支撑台上方；遮蔽装置，遮蔽装置设置于掩模版支撑台上方，遮蔽装置包括遮蔽器和遮蔽器移动控制模块，遮蔽器移动控制模块用于检测到遮蔽器的信号时，检测掩模版的预设目标区域和遮蔽器形成的开窗区域，并将开窗区域与预设目标区域进行比较；当开窗区域与预设目标区域一致时，对掩模版进行刻蚀。本申请能够解决如何提高掩模版刻蚀的效率和精度的技术问题。

本文源自：金融界

作者：情报员