5nm制程奈米压印设备售价仅EUV的10％ 能否出口中国有答案了

佳能公司设计制造的奈米压印技术设备引起半导体业界的关注，原认为可能绕过美国对中国晶片技术管制，让中国晶片业进入5nm制程。（图／佳能公司）

由佳能公司设计制造、号称可以进行5nm制程的奈米压印技术设备，一度引起半导体业界的关注，尤其是这项技术可能绕过中国晶片技术管制并取代艾斯摩（ASML）极紫外线光刻机（EUV），更是引起中国半导体业界者高度兴趣。佳能CEO三井藤夫对此表示，这项具有5nm制程能力的奈米压印技术与设备无法超越EUV光刻机，也无法卖到中国。

据《芯智讯》报导，佳能公司正计划将其新的基于奈米压印技术的晶片制造设备的价格定为ASML的EUV光刻机的1/10。由于该设备可以用于制造5nm尖端制程晶片，一度被认为有可能成为中国绕过美国限制来制造尖端制程晶片的可行方案。

总部位于荷兰的ASML是全球最大、也是唯一的极紫外光刻设备供应商。目前在光刻机市场还有尼康和佳能这2大供应商，但是，最尖端的EUV光刻机仍被ASML垄断，同时其出口对象也受到美国政府法规的管制审查。今年6月30日，荷兰政府正式出台新的半导体出口管制措施，ASML被禁止向中国客户出口EUV系统以及先进的浸没式DUV系统。

今年10月中旬，佳能公司宣布开始销售基于奈米压印（Nanoprinted lithography，NIL）技术的晶片生产设备FPA-1200NZ2C。该设备采用不同于复杂的传统光刻技术的方案，而是直接通过压印形成图案，可以用来制造5nm晶片。其制造速度虽然比传统光刻方式慢，但是可以大幅减少耗能并降低设备成本。

佳能公司CEO三井藤夫表示，奈米压印技术将为小型半导体制造商生产先进晶片开辟一条道路，设备价格很低，大约只要EUV光刻机的10%。（图／佳能公司）

佳能CEO三井藤夫表示，这项新的奈米压印技术将为小型半导体制造商生产先进晶片开辟一条道路，设备价格也会低得多，大约只要EUV光刻机的10%。晶片制造商也能降低对EUV光刻机的依赖，晶圆代工厂可以有第2条技术路线可以选择，可以更灵活的为客户生产小批量晶片。

佳能CEO三田井夫表示，他的理解是，任何超过14nm技术的出口都是被管制的，所以佳能无法销售奈米压印设备给中国。（图／芯智讯）

报导说，由于受到美国及荷兰对于先进半导体设备的出口管制影响，中国半导体业对于佳能奈米压印技术制造设备充满兴趣，认为这可能会是一条能够绕过美国限制制造更先进制程晶片的路径。

虽然在今年7月日本实施新的半导体出口管制，限制先进制程的浸没式光刻机出口，似乎并未限制奈米压印技术设备出口。但是事实上，在日本的出口管制清单中仍明确限制「可实现45nm以下线宽的压印光刻装置」。

佳能CEO三井藤夫也在最新的采访中表示，佳能可能无法将这些（奈米压印技术）晶片制造设备出口到中国，「我的理解是，任何超过14nm技术的出口都是被禁止的，所以我认为我们无法销售。」