三星2025年将量产2奈米制程技术 EUV曝光层大增

三星于2018年首次开始在其7奈米节点制程上开始使用EUV曝光技术，从那时起，随着转移到5奈米，再到 3奈米节点，三星在晶片生产过程中的EUV曝光层的数量或EUV技术的步骤数量也在持续成长。

据报导，三星的 2 奈米节点制程已经增加到了20层的EUV曝光层。而三星的 1.4 奈米节点制程则预计将有 30多个EUV曝光层。在此同时，三星也将EUV曝光设备应用于其DRAM生产上。