EUV概念股 营运有看头

极紫外光（EUV）概念股营运

微影设备大厂艾司摩尔（ASML）执行长温彼得（Peter Wennink）于投资人会议中宣布极紫外光（EUV）曝光机大扩产计划，2025～2026年低数值孔径（Low-NA）EUV机台年产能将提高至90台，高数值孔径（High-NA）EUV机台年产能将在2027～2028年扩增至20台。

由于半导体业者对于生产链库存修正在明年上半年结束已有高度共识，包括台积电、英特尔、三星、SK海力士、美光等全球前五大半导体厂，未来几年仍会积极建置EUV产能。法人乐观看好家登（3680）、帆宣（6196）、公准（3178）、意德士（7556）等EUV概念股未来几年营运将跟随着ASML扩产而持续畅旺。

ASML在投资人会议揭示市场前景、产能计划和商业模式新观点，同时宣布新的股票回购计划。温彼得针对成长机会的可能情境说明，尽管目前整体环境呈现短期的不确定性，但仍看到长期在晶圆需求与产能上的健康增长，在扩大应用领域和产业创新，将持续为半导体市场注入成长动能。

温彼得表示，新冠肺炎疫情带动数位转型持续加快脚步，相互连结的世界、气候变迁及能源短缺、社会及经济的典范转移等三大面向，带动包括人工智慧（AI）及边缘运算、云端及5G超连结、再生能源及节能减碳、电动车及自驾车、远距工作及工厂自动化等新应用全面落地。

温彼得表示，随着各个市场的强劲成长及持续创新，更多晶圆代工厂的竞争及技术主权竞争，驱动市场对于先进制程与成熟制程的需求，因而需要更多晶圆产能。为此，ASML计划调整产能以满足未来需求，为周期性做好准备，同时与所有利害关系人公平分担风险和回报。

随着半导体终端市场的成长，和未来先进制程中对于微影设备的投资持续增加，将带动客户对ASML产品和服务的需求。ASML预期2025～2026年的EUV机台年产能将增加至90台，与目前55台相较大幅成长，应用在2奈米及更先进制程的High-NA曝光机年产能会在2027～2028年达到20台规模。