艾司摩尔看旺今年半导体 法人按赞EUV概念股

微影设备大厂艾司摩尔（ASML）21日公告第一季财报及第二季展望优于预期，今年业绩预估将较去年成长30％。ASML执行长Peter Wennink指出，与3个月前相较，逻辑IC及记忆体需求均大幅提升，市场对于极紫外光（EUV）等微影设备需求强劲，ASML预估明年EUV机台出货量将提升至55台。法人看好包括家登（3680）、帆宣（6196）、公准（3178）、意德士（7556）等EUV概念股今年营运表现。

ASML公告第一季合并营收达43.64亿欧元，毛利率季增1.9个百分点达53.9％，税后净利13.31亿欧元，每股净利3.21欧元，财报表现优于市场预期。第一季新接订单金额达47.40亿欧元，其中EUV机台设备金额达22.94亿欧元。ASML预估第二季营收介于40～41亿欧元，毛利率达49％，由于逻辑及记忆体相关微影设备需求强劲成长，预期全年营收将成长30％优于预期。

Peter Wennink表示，现在全球晶片都呈现缺货状况，兴建新厂缓不济急，最有效率解决缺货问题的最佳方法是提升现有设备生产力。由于数位转型持续加速，5G、人工智慧（AI）、高效能运算（HPC）等需求强劲增加，与3个月前相较，逻辑及记忆体设备需求全面提升，ASML今年逻辑相关营收年成长率由先前预估的10％提升至30％，记忆体相关营收年成长率则由先前预估的20％大幅提升至50％，ASML今年营收年成长率可望由先前预估的二位数提升到30％。

ASML预期今年EUV设备出货介于45～50台，而随着逻辑及DRAM制程推进，晶圆EUV光罩层数提升，下半年将推出新一代EUV设备NXE：3600D，明年预估出货量达55台且全数都是新一代设备，新设备可协助客户的每天晶圆曝光量提升15～20％。

以今年各半导体大厂的投资支出来看，EUV产能建置扮演重要驱动力，台积电提升资本支出至300亿美元，用于建置5奈米及3奈米EUV产能，三星在晶圆代工及记忆体同步扩充EUV生产线，英特尔也展开7奈米EUV产能建置。法人看好EUV Pod供应商家登、EUV机台次系统模组代工厂帆宣、EUV曝光机精密零件供应商公准及意德士等EUV概念股今年接单逐季看旺，订单能见度直达年底。