艾司摩尔 南科设EUV技术培训中心

晶圆代工龙头台积电下半年全力冲刺5奈米量产，明年还展开3奈米生产线建置，台积电已成为全球拥有最大极紫外光（EUV）产能的半导体大厂，台湾因此成为全球EUV曝光机最大市场。微影设备大厂荷商艾司摩尔（ASML）在南科设立荷兰以外的首座EUV全球技术培训中心20日开幕启用，就近支援台积电及亚太地区客户。

台积电中科Fab 15厂及竹科Fab 12厂都有建置EUV曝光机设备，主要提供7+奈米及6奈米晶圆代工，南科Fab 18厂是针对5奈米及3奈米打造的超大型晶圆厂（GigaFab），亦是台积电EUV微影全制程厂区。台积电下半年5奈米进入量产，明年开始建置3奈米生产线，对于EUV曝光机需求大增。据了解，台积电Fab 18厂现阶段已安装18台EUV曝光机，成为全球拥有最大EUV产能的半导体厂。

台积电看好5奈米及3奈米等先进制程未来几年强劲需求，今年资本支出已提高至160～170亿美元，代表对持续增加EUV曝光机采购量。EUV设备大厂艾司摩尔为了服务大客户台积电，并就近支援亚太区其它客户，选择在南科设立荷兰以外的首座EUV全球技术培训中心。

艾司摩尔全球副总裁暨台湾区总经理陈文光20日在培训中心开幕典礼指出，2010年艾司摩尔提供第一台EUV微影设备原型机给台积电进行研发工作，为全球微影技术开创新纪元。2017年艾司摩尔交付第一台量产型EUV微影系统给台积电，写下商用EUV制程技术的新里程。台湾EUV曝光机装机规模已领先全球，艾司摩尔在南科成立EUV全球技术培训中心，为台湾半导体产业提供更完整的服务。

艾司摩尔重申看好EUV曝光机台出货，今年EUV设备产能可支援35台出货量，明年可望再增加至45～50台。由于晶圆代工厂及IDM厂在7奈米及更先进制程需要大量采用EUV技术完成晶圆光罩曝光制程，DRAM厂也开始导入EUV技术，随着台积电、三星、英特尔、SK海力士等国际大厂开始量产，法人看好EUV机台次系统模组代工厂帆宣、极紫外光光罩盒（EUV Pod）供应大厂家登等直接受惠，订单能见度看到年底。

同时，台积电亦借由干式EUV光罩洁净技术的创新，自2018年导入试产迄今，有效减省水、化学品等能资源使用量，大幅缩短光罩保修频率与时间，除使光罩使用率跃升超过80％，亦延长先进制程EUV光罩寿命，累计创造的改善效益达新台币20亿元。台积电已于今年于Fab 12B厂、Fab 15B厂、Fab 18厂自动化系统导入量产，优化干式EUV光罩技术可分析与清洁小于50奈米落尘。