英特爾準備接收第二套艾司摩爾 High NA EUV設備

艾司摩尔（ASML）的最新的高阶晶片生产工具：高数值孔径极紫外光（High-NA EUV）微影设备。 路透

英特尔（Intel）正准备接收第二套来自艾司摩尔（ASML）的最新高阶晶片生产机器：高数值孔径极紫外光（High-NA EUV）微影设备。这套先进设备价格高达3.5亿欧元（3.83亿美元）。

路透5日报导，英特尔执行长基辛格其实是在上周四财报视讯说明会时，就提到上述进度。但上周四美股盘后英特尔发布财报时，强调必须节约开支，随着公告要大裁员、暂停发放股利，公司股价在当时就随即崩了20%，第二天正常交易收盘更重挫26%。投资人忙着狂抛英特尔股票之时，没人注意到基辛格这段谈话。

英特尔去年12月开始收到第一台艾司摩尔出货的High-NA EUV微影设备，因为机器庞大需要花多个月才能组装完成，一切就绪后，便能够制造新一代、更强大的电脑晶片。

根据财报说明会文字纪录，基辛格在财报说明会上说，「第二套High-NA工具将进到我们奥勒冈州厂区」，公司的科技投资，「正在展现良好的早期迹象」。

艾司摩尔高阶主管上月17日曾表示，公司开始出货第二套High-NA设备给客户，未说客户是谁。High-NA顺利导入市场对艾司摩尔的未来发展也非常关键，但购买的客户究竟何时才会真的启用，仍有不确定性。

目前艾司摩尔拿到的十多张High-NA设备的订单，客户包括台积电、英特尔、三星电子、SK海力士、美光等市场领导大厂。英特尔计划2027年之前利用High-NA微影技术量产。台积电今年将接收一套，但没有表明何时用于生产。

艾司摩尔公司（ASML）执行长富凯上月提到DRAM记忆晶片制造厂，可能在2025年或2026年使用High-NA设备。DRAM记忆晶片制造厂指的是三星、SK海力士、美光。