台積電嫌high-NA EUV貴 ASML主管妙回

ASML High NA EUV 产品管理副总裁 Greet Storms 。图／公司提供

台积电（2330）A16先进制程节点不急着用艾司摩尔（ASML）high-NA EUV设备，台积电业务开发资深副总经理暨副共同营运长张晓强今年也公开表示「喜欢High-NA EUV的能力但我不喜欢标价」，相关谈话被外界认为嫌贵，对客户的意见，ASML High NA EUV 产品管理副总裁 Greet Storms 今日在媒体分享会上回应本报记者提问该议题时提出幽默回应。

回应记者提问客户嫌贵，Greet Storms 幽默说，相信客户很会议价，这也就像你去买车子，一定会谈价格。

但她也提到，「ASML持续推进新的技术并获得每个EUV客户在研发阶段青睐，这些也都是我们high NA客户，也都有下单给我们，2026年希望是往量产方向推进」，不过仍看客户制程成本等总体考量。

Greet Storms 并在今天的ASML新一代EUV微影技术媒体聚会分享时强调：「透过导入 High NA EUV，客户将可减少量产逻辑和记忆体晶片的制造工序，进而显著降低制程缺陷、成本和生产周期。High NA EUV（0.55 NA）将与现行的 EUV（0.33 NA）在设计方面有通用性，可降低客户的导入风险和研发成本」。

High NA EUV 微影系统已于去年底开始陆续出货，产能预计每小时可曝光超过 185 片晶圆，将支援 2 奈米以下逻辑晶片及具有相似电晶体密度的记忆体晶片量产。

在先进制程晶片制造中导入 EUV 技术可简化制程工序、减少光罩数量，达到产能和良率提升，进而降低生产每片晶圆的用电量。ASML 预估，若在先进制程中导入包括 EUV 和 High NA EUV 微影系统，到 2029 年，使用 ASML 微影技术生产每一片晶圆使用的 100 度电，将为整体制程节省 200 度电。

ASML High NA EUV 产品管理副总裁 Greet Storms 。图：公司提供