英特尔已完成第二台High-NA EUV的组装，ASML称新款光刻机有更好的安装设计

据TrendForce报道，ASML首席执行官Christophe Fouquet宣布，英特尔已完成第二台High-NA EUV光刻机的组装工作。Christophe Fouquet表示，与普通的EUV光刻机相比，High-NA EUV光刻机不太可能出现延迟交付的情况，因为这种设备可以直接在客户的工厂组装，无需经过拆卸再重装的过程，可以为客户节省了时间和成本，有助于提升产品的交付速度。

英特尔院士兼光刻总监Mark Phillips表示，英特尔已经在波特兰的工厂成功完成两套High-NA EUV系统的安装，速度超出了预期。第二台High-NA EUV光刻机在组装上实际耗费的时间比第一台还要少，这得益于所需的必要基础设施都已到位。

与此同时，用于High-NA EUV光刻机的光罩检测工作已经按计划开始进行，Mark Phillips称英特尔无需做太多辅助支持工作即可将其投入使用。英特尔的目标是在2026年至2027年之间，让Intel 14A工艺实现量产，外界普遍认为High-NA EUV光刻机将是英特尔重新夺回技术领先地位的关键。在此之前，英特尔将继续优化先进的工艺技术，以进一步提高性能和成本效益。

传闻ASML手上已经收到了十多台High-NA EUV光刻机的订单，包括英特尔、台积电、三星、SK海力士、以及美光。台积电在上个月也接收了首台High-NA EUV光刻机，移送至其全球研发中心进行研究，以满足A14等未来先进工艺的开发需求。