不讓台積專美 SK海力士也考慮採用ASML的High NA EUV設備

SK海力士技术长表示，正考虑使用艾司摩尔（ASML）最新的High-NA EUV微影系统设备，来生产下一代记忆体晶片。 路透

南韩晶片大厂SK海力士14日表示，正考虑使用艾司摩尔（ASML）造价4亿美元的高数值孔径极紫外光（High NA EUV）微影系统设备，来生产下一代记忆体晶片。

路透报导，SK海力士技术长Seon-yong Cha 14日在荷兰举行的艾司摩尔投资人日上透过预录影片表示，正考虑引进这台全球最昂贵的晶片制造设备。

虽然这台设备造价不斐，但据传台积电和英特尔等公司都已下单。外媒本月稍早引述消息人士报导，台积电订购的High-NA EUV设备首批机件，将在年底前运抵台湾。英特尔则在几个月前就已收到这台设备。