何時採用 high-NA EUV？ 台積電張曉強這樣說

TechTechPotato YouTube 近期上传台积电（2330）资深副总暨副共同营运长张晓强29分钟、近半小时的访谈，期间张晓强回应主持人提问关于高数值孔径极紫外光（high-NA EUV）微影设备相关议题时提到，相信台积电研发团队会做出最好决定，在合适的技术节点采用。

主持人提问最近参访晶圆厂，了解到ASML最新的high-NA EUV微影设备，而英特尔公开提到希望成为率先采用的厂商，不知道台积对high-NA EUV应用有什么规划？

张晓强回应说，相信台积电研发团队将继续专注于新的EUV应用，这明显包含高数值孔径极紫外光设备，我们将选择合适的技术节点来使用，毕竟需要考虑很多因素。

张晓强也说，显然存在可扩展性因素，还有制造成本因素，所以我相信我们的研发团队会做出最好的决定，在何时何处选择下一代EUV来应用。

张晓强先前在台积电技术论坛提到说明，台积电2024年会拥有高数值孔径EUV工具但还不准备运用新工具来生产，主要使用目的是跟伙伴进行研究。