艾司摩尔:中国曝光机落后20年

大陆加紧马力发展半导体晶片制造关键设备大厂艾司摩尔此前评价,大陆曝光机与世界顶尖差距大概有20年之久。虽然当地晶圆代工龙头中芯国际认为追赶此差距不需要20年,但也承认很难一下子赶超。

第一财经报导,中芯国际联席CEO赵海军24日在论坛上表示,此前艾司摩尔技术长Martin van Der Brink来上海参观时曾表示,双方的差距大约有20年。

但赵海军也表示,自己认为20年的差距并不需要真的花到这么多时间去追赶,当然想要一下子超越很难,但可以每次一点点递进。而艾司摩尔之所以厉害,在于别人已经不做这个领域了,但它依然坚持做下去。

同场论坛上,中国工程院院士汉明则指出,曝光机涉及10多万零组件,需要5千多供应商支撑,但多数仍在荷美德日,大陆怎么参与这项全球技术合作,能掌握住哪些环节的自主可控是重要的关键。

吴汉明还表示,目前大陆晶片制程有包括精密图形、新材料以及良率三大挑战,自己相信趋缓的摩尔定律让该领域的追赶者有机会跟上。吴汉明强调,虽然产业有晶片投资是否过热的质疑,但大陆做晶片的以及相关投资远不到过热程度外界对晶片需求越来越大,大陆在该领域的制造能力还有很大差距。赵海军也表示,目前大陆状况,晶片投资过热并非本质