艾司摩爾：新EUV能耗減少

半导体设备业者艾司摩尔（ＡＳＭＬ）昨日在SEMICON Taiwan半导体展，分享新一代高数值孔径极紫外光（High NA EUV）微影技术，艾司摩尔High NA EUV产品管理副总裁Greet Storms表示，新一代设备虽贵，但绝对值得。

High NA EUV于二○二三年问世，去年底出货给首家下单的美系客户，亚洲客户将于今、明年陆续安装。

不过，ＥＵＶ设备被喻为吃电怪兽，但ＡＳＭＬ提出统计指出，二○一八年到二○二三年五年间，ＥＵＶ曝光每片晶圆能耗减少近百分之四十，希望到二○二五年再减少近百分之卅五能耗。