半导体资本支出集中投资EUV产能 EUV概念股 订单满到下半年
台积电2021年资本支出上看250～280亿美元，三星的半导体事业资本支出传出上看300亿美元，业界预期，包括英特尔、SK海力士、美光等大厂亦将调升资本支出。由于半导体大厂2021年资本支出将会集中投资在极紫外光（EUV）的产能建置，为EUV供应链带来强劲需求，包括家登、帆宣、崇越、华立、公准等EUV概念股营运看旺。
半导体市场在2020年面临新冠肺炎疫情及美中贸易战等外在环境影响，但数位转型加速，各半导体大厂同步加快EUV制程量产，并大幅拉高2021年资本支出扩建EUV新产能。除了台积电将2021年资本支出拉升至250～280亿美元，三星传出年度资本支出上看300亿美元，业界预期英特尔、美光、SK海力士会持续加码资本支出。
台积电及三星等半导体大厂均已导入EUV技术并建置全新生产线，带动EUV曝光机强劲出货动能，法人看好极紫外光光罩盒（EUV Pod）供应商家登、EUV机台次系统模组代工厂帆宣、EUV光阻液供应商崇越及华立、EUV曝光机精密零件供应商公准等EUV概念股2021年接单畅旺，订单能见度直达下半年。
微影设备大厂艾司摩尔（ASML）执行长Peter Wennink在法说会中表示，2021年营运展望乐观，同时逻辑及DRAM先进制程持续推进，为2021年EUV设备带来强劲的成长动能。
2020年采用ASML的EUV曝光机共完成2600万片晶圆曝光，其中在2020年第四季的EUV曝光晶圆数量就高达900万片，业界预期2021年第一季就可望突破1,000万片规模。ASML计划2021年发布新一代EUV曝光机NXE: 3600D，可提升生产力达18％，EUV设备在手订单规模已达62亿欧元，预期2021年EUV相关营收规模将较2020年成长30％达58亿欧元。
此外，ASML的EUV曝光机年度产能已提升至50台，次世代高解析度EUV技术研发持续进行，全新Hign-NA规格EUV曝光机预计可在2023年交货予半导体厂风险生产，预期在2025～2026年可协助客户进入量产阶段。