力保半导体业 中国吁荷兰「公平」输出EUV光刻机
为在美国科技封锁的背景下，力保本土半导体产业，大陆商务部官员于16日举行的中荷经贸混委会会议中，提出愿在服务贸易、电子商务等领域扩大和荷兰的合作，希望荷方在华为5G、EUV光刻机等问题上秉持公平立场。
光刻机系指所谓的极紫外光（EUV）微影设备，在大陆称为「极紫外光刻机」，在半导体业、晶片生产过程扮演关键性角色，在7奈米及5奈米、3奈米更先进的制程技术中所使用的光刻机，目前全球只有荷兰大厂艾司摩尔（ASML）有能力生产。
▲大陆中芯国际力求制程技术突破，急需从荷兰进口先进的光刻机。（图／CFP）
目前，大陆中芯国际宣称完成7奈米的技术开发，计划明年4月初步量产，力求突破美方的技术封锁，因此荷兰政府是否批准，向中国大陆出口更先进的EUV(极紫外光刻机)设备，尤其关键。
16日下午，大陆商务部副部长、国际贸易谈判副代表俞建华与荷兰外交部外贸与发展合作大臣卡格，以视讯方式共同主持召开中荷经贸混委会第17次会议。
俞建华表示，当前中国正在加快构建以国内大循环为主体、国内国际双循环相互促进的新发展格局，这将给中荷、中欧合作带来新机遇。他说，欢迎荷兰企业扩大对华贸易投资，中荷双方应继续坚持多边主义，积极推进全球贸易投资自由化便利化。
他进一步强调，中方愿在服务贸易、电子商务等领域扩大合作，同时希望荷方在华为5G、EUV光刻机等问题上秉持公平立场。
据大陆商务部讯息，卡格回应，荷方重视中方市场，愿与中方一道加强多边领域合作，希望扩大服务贸易和电子商务领域务实合作，同时探讨应对气变、可持续发展等领域的合作机遇；另一方面，中荷双方同意支持两国企业筹建企业家委员会机制，并在明年初举办首届中荷线上企业经贸交流会。
针对光刻机议题，美国政府在2018到2019年之间，就曾以「安全威胁」为由，阻挠ASML向大陆企业出售EUV，因为EUV被认为是军民两用的双重用途产品；对此，中国驻荷大使徐宏于今年初接受《金融日报》专访时表示，这不是一个简单的技术性问题，这牵涉到荷兰政府今后的政策取向问题，「我们（中国大陆）对这一点很关注。」
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