《国际产业》韩媒：英特尔包下ASML高阶EUV产能 直到明年这时候

消息人士称，ASML今年将生产5套EUV设备，这些设备将全部交给英特尔。

他们还表示，由于ASML高数值孔径EUV设备的产能约为每年5至6台，这意指英特尔将获得所有的初始库存。

此外消息人士预计，三星和SK海力士将在明年下半某个时候才能获得该设备。

他们还说，英特尔在宣布重新进入晶片代工业务时，已抢先购买了这些设备。

ASML的高NA EUV设备是晶片制造商制造2奈米制程晶片的必备设备。NA代表数值孔径，表示光学系统收集和聚焦光线的能力，数值越大，越有利于聚集光。高数值孔径EUV设备的NA从0.33提高到0.55，意指该设备可以绘制更精细的电路图案。

为赢得客户，英特尔正以更快的速度采用高NA EUV设备。