挤下苹果成第一 ASML变摩尔定律救星 陷陆美晶片争霸

设备大厂艾司摩尔。（图／Shutterstock）

2021未来品牌指数（Future Brand Index 2021）百大品牌排名，由独家供应极紫外光(EUV)微影设备、荷兰半导体设备商艾司摩尔(ASML)夺下冠军，挤下美国智慧机龙头苹果，全球晶圆代工龙头台积电则是大幅跃进，登上第6。

未来品牌指数（Future Brand Index）与财富500等排名不同，评估的不是财务指标，而是由会计师事务所普华永道（PwC）选出的全球100家公司为基础，邀请3000名专家以启发、创新、独立性、公司领导、员工素质等18个不同面向的评分进行排名。

ASML提供深紫外光(DUV)微影设备等曝光机，以及独家供应的极紫外光(EUV)微影设备，更成为包括台积电、三星电子在先进制程发展的重要设备，这也使得ASML成为半导体公司想要跨入先进制程发展的关键地位，近期频频被外媒点名。

据金融时报先前报导，虽然ASML在商业上获得优异成绩，但就如许多半导体厂商一般，都陷入陆美科技战的争端，对全球半导体供应链来说都造成不小影响。ASML 供应商约有 5000 家，每个动作都对于该公司供应链有相关影响，其中超过75%的设备与服务销售销往亚洲，主要是台湾、南韩和大陆，但在美国政府对大陆半导体发展打击之下，让ASML的地位相当尴尬。

中芯国际2018年跟ASML订购EUV机台，在2019年遭到川普政府出手阻挠，导致中芯国际无法取得EUV机台。当时ASML回应，是为了遵守《瓦圣纳协议》，须等待荷兰政府审核出口许可，才能出货中芯国际。不过，中芯国际今年3月重新跟ASML签约，12亿美元的订单，主要用来采购深紫外光(DUV)微影设备，期限到今年底，但至今仍未有下文，主要是拜登政府延续川普政策，甚至大力限缩半导体生产设备与材料输入大陆。虽然大陆半导体自主化持续推进，许多半导体生产设备与材料供应商也有意打入中芯供应链，但目前来说，仍没有太多供应商有办法满足中芯的需求，显见ASML设备在半导体的关键地位。

ASML执行长Peter Wennink曾警告，美国加强对大陆的限制，不只陆会面临损失，同时也会影响美国经济，直言大陆拥有最大的半导体市场，若美国持续限制厂商出口，等待大陆完成半导体产业链自给自足，很多外国公司都会因此被排除在外，美国经济势必会受到波及。

晶圆代工厂跨入先进制程领域后，摩尔定律是否能维持，成为业界关注焦点，但ASML的EUV机台成为摩尔定律救星，台积电先是采用深紫外光(DUV)微影设备的193nm浸润式ArF微影，让台积电第一代7奈米制程出世，并采用EUV技术持续推进电晶体微缩，台积电也借此拉开与竞争对手三星电子的差距。

在进入20奈米制程后，各家厂商采用鳍式场效电晶体(FinFET)，是种多重闸道 3D 电晶体，控制电流通过的闸门从平面走向类似鱼鳍的3D电晶体，并由闸极(所称的20奈米制程，指得就是闸极长度，或称线宽)所包覆，大大强化控制电流。但随着电晶体微缩持续推进，如今称数字制程更接近的是鳍片宽度，也因如此，三星电子率先在3奈米制程采用环绕闸极技术（Gate-All-AroundGAA）；至于近期宣布重返晶圆代工领域的英特尔，也将扩大采用EUV技术，ASML所提供的EUV机台更说是功不可没。

先进制程持续朝着3奈米、2奈米、1.5奈米，甚至是小于1奈米制程，ASML合作研发新一代高解析度EUV曝光技术（High NA EUV），目前已经完成设备的基本设计，型号为NXE5000系列，预计2022年达到商用化，这一套半导体生产设备预料也会变得非常巨大。

ASML技术开发副总裁 Tony Yen日前受访也指出，由于2000年没有日本厂商愿意做EUV微影设备的研发与生产，主要是系统非常复杂，且当时无法确认EUV技术应用，所以ASML很早期就投入，并与蔡司（ZEISS）合作，以及收购美国圣地亚哥 Cymer，协助EUV技术重大进展。

至于摩尔定律是否面临瓶颈，Tony Yen表示没有，甚至认为摩尔定律还会再延续 10 年甚至更长，目前电晶体微缩的课题，还有3D封装的解决方案，但 2D架构微缩，仍可以持续10年，ASML也为此持续开发下一代半导体生产设备。