三星电子将在2nm工艺应用后端供电技术
《科创板日报》23日讯,三星电子宣布,在2纳米半导体工艺中采用后端供电(BSPDN)技术,预计将使芯片面积减少约17%,同时性能提升8%,功耗降低15%。这是三星首次公开BSPDN技术的性能改进数据。
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