台积电不用当盘子了？日本开发出更便宜EUV 撼动晶片业

制造先进晶片需采用EUV曝光机。（示意图：shutterstock／达志）

荷商艾司摩尔（ASML）是半导体设备巨头，台积电等龙头公司制造先进晶片，都需采用ASML制造商生产的昂贵极紫外光曝光机（EUV），根据《Tom's Hardware》报导，日本科学家已开发出简化的EUV扫描仪，可以大幅降低晶片的生产成本。

报导指出，冲绳科学技术学院（OIST）Tsumoru Shintake教授提出一种全新、大幅简化的EUV曝光机，相比ASML开发和制造的工具更便宜，如果该种设备大规模量产，可能重塑晶片制造设备产业的现况。

值得关注的是，新系统在光学投影设定中只使用两面镜子，与传统的六镜配置有很大不同，这种光学系统的挑战在于，它得将这些反射镜沿直线对齐，以确保系统保持较高的光学性能。

报导称，这种新的光路允许超过10%的初始EUV能量到达晶圆，而标准设定中的能量约为1%，这个改进是重大突破。而这种EUV微影工具的优点，在于提高可靠性并降低了维护复杂性，以及功耗大幅降低。