中芯国际:14nm良率达业界水准、先进工艺已有10多款芯片流片

日前,中芯国际联席CEO梁孟松博士投资者调研会议上透漏了公司最新进展,特别是在先进工艺上的最新情况

梁博士表示,14纳米在去年第四季度进入量产良率已达业界量产水准。随着我们展现出的研发执行能力客户对中芯国际技术信心也在逐步增强,我们将持续提升产品服务竞争力,引入更多的海内外客户。

我们第二代先进工艺技术n+1正在稳步地推进中,n+1正在做客户产品验证,目前进入小量试产,产品应用主要为性能运算

相对于第一代先进技术,第二代技术平台以低成本客制化为导向,第二代相较于14纳米,性能提高20%,功率减少57%,逻辑面积减少63%,集成系统面积减少55%。

总体来说,我们正在与国内海外客户合作10多个先进工艺流片项目,包含14纳米及更先进工艺技术。

梁博士表示,我们相信,随着5G、物联网教育工作场所资讯数位化的兴起,集成电路行业将涌现巨大的市场机遇

为了推动公司的创新与发展,我们将持续推进研发工作,来服务并满足客户需求和不断增长的数字消费市场,新专案、新节点的开展需要时间,我们将一步一脚印地稳步开发先进工艺技术 。