佳能 搶攻晶片製造設備

日本相机暨印表机大厂佳能（Canon） 准备抢攻先进半导体制造设备市场，将推出不用光线刻蚀，改用压印的新机器，价格号称比荷商艾司摩尔（ASML）的设备少了一个零、用电量最多减少九成，最快将在今年出货。

英国金融时报报导，佳能去年十月中发布的奈米压印微影（nanoimprint lithography）技术，不用光线刻蚀，而是将晶片设计戳印在矽晶圆上。佳能说，这种科技已经发展超过十五年，但至今才有商业可行性。

高度精密的极紫外光（EUV）设备，是台积电、三星、英特尔等生产最新一代晶片的必需品，ASML是唯一能够生产这种设备的集团，但ASML设备每台要价超过一点五亿美元，交货的前置时间又长。

不过，佳能的最大挑战之一，是要提高进一步微缩制程的成功率。该公司从五纳米起跳，目标要达到二奈米。佳能负责开发新微影设备的武石洋明不愿透露奈米压印设备的潜在良率，分析师说，良率需接近百分之九十，才能与EUV竞争。