美禁令效應 ASML：中國買不到EUV 晶片技術落後15年

艾司摩尔执行长富凯表示，美国对中国禁止出口极紫外光（EUV）曝光设备，中国晶片技术将落后西方。（路透）

荷兰半导体曝光设备大厂艾司摩尔（ASML）执行长富凯（Christophe Fouquet）日前接受媒体专访时表示，由于美国对中国禁止出口极紫外光（EUV）曝光设备，导致中国无法获得尖端曝光机，与英特尔、台积电和三星等行业巨头相比，中国晶片技术将落后西方10~15年。

荷兰「新鹿特丹报」（NRC）报导，富凯指出，禁令确实会产生影响，毕竟ASML是一家私营企业。

这是自2024年4月富凯担任ASML执行长以来，首次谈及中国与海外半导体产业的差距。先前富凯还表示，世界需要中国生产的传统晶片，将填补欧洲供需缺口，尤其中国厂商不可能造出先进曝光系统。

今年10月16日，ASML发布2024财年第3季财报显示，销售额为75亿欧元（约78亿美元），高于预期目标，主要得益于深紫外（DUV）曝光系统销售和装机售后服务增加，该季度毛利率为50.8%，低于上一季度，净利润21亿欧元。其中中国仍是ASML最大市场，占第3季销售额47%。

富凯表示，ASML拥有令人难以置信的市场地位，但也为此付出代价：关注和外部压力。这一点将继续存在，中国、美国都将ASML视为拼图中的关键部分。他强调，「如果剩下几个大公司，对创新来说会更好。我毫不怀疑三星将会复苏。竞争对手也希望看到英特尔再次表现出色。但如果犯的错误太多，就很难起来。英特尔的复苏对美国具有重要战略意义。」

世界上几乎90%的晶片都是由ASML曝光系统生产，随着先进制程向5奈米及以下进化，EUV成为未来曝光技术和先进制程核心，主要用于7奈米及以下先进晶片制造制程，ASML是唯一的供应商。

另外，巴隆周刊分析，中国晶片制造商已拟定策略，要在成熟制程上站稳主导地位，无论美国如何因应，都将对西方科技公司带来风险。若美国将出口管制扩大到低阶设备，ASML和其他晶片设备同业大部分收入将蒸发，冲击成长和获利能力。但若不扩大出口管制，包括德州仪器、意法半导体和格芯在内的西方成熟制程晶片公司，将可能受到直接伤害，面临来自成本较低的中国晶片激烈竞争。