英特爾宣布 完成首台商用高數值孔徑EUV光刻機組裝

图／英特尔提供

半导体巨人英特尔于18日宣布，在其俄勒冈州的研发中心，完成业界首台商用高数值孔径极紫外光（High-NA EUV）光刻机的组装。

半导体设备商艾司摩尔（ASML）于去年底在社群平台X贴出图片，显示开始将第一套高数值孔径EUV系统的主要部分出货给英特尔。如今英特尔宣布已完成组装，展现领先竞争对手的用意明显。

在4年发展5个制程节点计划，预计最先进可达Intel 18A制程之后，英特尔规画未来将在其Intel 14A制程正式导入利用高数值孔径EUV。先前根据分析师预估，这套高数值孔径EUV设备的价格约达2.5亿欧元。

英特尔于日前透露，将在2027年前开发出14A制程，以及Intel 14A-E制程。

英特尔强调，高数值孔径EUV设备TWINSCAN EXE:5000现正进行校准，这套设备结合该公司晶圆厂内的其他技术，有望能制印出比现有EUV设备小1.7倍的特征。

同时，英特尔提到，后续该公司也已计划购置下一代TWINSCAN EXE:5200B系统。