中国半导体突破8奈米 台积电前研发处长杨光磊「没道理做不出」

▲大陆科创板第一股中芯国际上海总公司。(图/CFP)

记者陈莹欣/台北报导

中国工信部近日公布重大技术装备推广应用指导目录,其中两台曝光机据传可生产8奈米及以下晶片,引发市场热议,中芯国际股价因此看涨,不过前台积电(2330)研发处长、中芯国际前独立董事杨光磊表示:「说中国做不出8奈米没道理。」但对良率、效能和成本等关键表现,杨光磊存疑。

现任国立台湾大学重点科技研究学院客座教授的杨光磊日前受资深媒体人岑永康邀约在《永康新世界》中分享产业观点,被问到中芯国际受到半导体技术突破股价走扬,他笑答:「于我如浮云啊,去英特尔之前,我早就卖光了。」

杨光磊指出,美国抵制,让中国「被迫」国产化,虽然早期在他刚毕业美国有禁令,后来中芯取得美国同意投入半导体生产,美中贸易战后,中国想要倾全国之力自主设备,杨说:「目前中芯可以做7奈米没有问题。」

根据中国的奈米技术,杨光磊认为,目前中芯国际用艾司摩尔(ASML)的机器,制作7奈米晶片绝对没问题,因为台积电第一代的7奈米也未使用到极紫外光(EUV)机器。

至于用干式的氟化氩光刻机,杨光磊说,该光刻机雷射波长193奈米,要制作出8奈米的技术,绝对是可能的,因为193奈米不断除以2就会接近8奈米,所以技术上绝对可行。

杨光磊指出,其实氟化氩光刻机最早在半导体制程里用于「0.13微米」时代,1999年就开始使用了,现在说中国做不出来,好像没什么道理。

台湾科技力智库执行长乌凌翔指出,大陆工信部的指导目录,其中氟化氪、氟化氩,套刻8奈米,和ASML约18至20年前的技术,虽然距现在还非常远,但有进步、有突破。

杨光磊强调,自己去中芯只是做独立董事,只是参加董事会,没有参加中芯的实质活动,「包括研发,他们找我给建议,但我发现,也没有太多可以建议。」

「中芯执行长叫梁孟松,是我见识过最厉害的技术人员,有他在,根本没有我的角色。」杨光磊说:「我在2021年从中芯退下来时,当时的中芯已帮华为7奈米做出雏型验证,但是效能多好,可能不见得;现在2024年,过了3年以后,(传出突破8奈米制程)我不会惊讶。」

不过,杨光磊也认为,所有东西涉及成本还有良率的问题,要理解3年是什么概念,摩尔定律是1.5到2年是1代技术,3年是1.5代,有些产品已经往前走了,从技术和很多考量在世界上可能没有竞争力了,但中国市场是自己的封闭式市场,它的终端产品如华为手机与苹果竞争。

杨光磊认为,国与国的竞争、产品与产品的竞争,是在终端产品上,而不是只有初段制程,华为愿意花这个成本、让毛利率下来,去做10奈米以下的产品,后市表现需要再做观察。