撼动ASML地位？佳能最新神器出货 晶片制造更省电省钱

微影是晶片制造制程中的重要步骤。（图：shutterstock／达志）

荷商艾司摩尔（ASML）是半导体设备巨头，台积电等龙头公司制造先进晶片，都需采用ASML制造商生产的昂贵极紫外光曝光机（EUV），台积电之后或许有别家厂商能选择，日本企业佳能（Canon）发布新闻稿指出，已将第一台奈米压印曝光机运送到美国德州电子研究所，目前先供其研发实验室使用，将让晶片制造更省电省钱。

佳能指出，公司去年10月发表采用奈米压印微影 （NIL）技术的设备，名称为「FPA-1200NZ2C」，该设备可用来生产5奈米晶片，经改良后能生产2奈米。

佳能表示，已将其中一个奈米压印曝光机运送给德州电子研究所，该机构是成立于2021年的半导体联盟，并得到德州学奥斯汀分校，以及众多晶片公司、其他公共部门和学术机构的支持。

佳能表示，「FPA-1200NZ2C」将用作先进半导体研发和原型生产的一部分，相比使用更传统光学方法的竞争对手，其奈米压印制程更便宜、功耗也更少，而且不需要光源。

ASML昂贵的设备价格，对客户来说是庞大负担，最先进的High NA EUV要价约3.8亿美元（约新台币121.2亿元），相比前一代EUV约1.8亿美元（约新台币57.4亿元）贵上一倍。