捷佳伟创取得靶材供料设备与真空镀膜设备专利,实现对不间断供料,保证工艺的持续进行

金融界 2024 年 8 月 21 日消息,天眼查知识产权信息显示,深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司取得一项名为“靶材供料设备与真空镀膜设备“,授权公告号 CN112553582B,申请日期为 2020 年 12 月。

专利摘要显示,本发明公开了一种靶材供料设备与真空镀膜设备,靶材供料设备中,第一密封模组用于打开或者切断第一存储模与外界的连通;第二密封模组用于于打开或者切断第一存储模组与第二存储模组的连通;第一上料模组用于在第二密封模组处于切断状态时将靶材送入第一存储模组;第二上料模组用于在第一密封模组处于切断状态,且第二密封模组处于打开状态时,将所述第一存储模组中的靶材移送至第二存储模组;第三上料模组用于将第二存储模组上的靶材移送至设定位置。本发明实施例的靶材供料设备可以实现对不间断供料,保证工艺的持续进行。同时,第二容器可以始终保持与外界的隔离,避免破坏反应位置的真空状态。

本文源自:金融界

作者:情报员