捷佳伟创申请真空镀膜机及调试方法专利，有效提高了镀膜的精度和效率

金融界2024年6月28日消息，天眼查知识产权信息显示，深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司申请一项名为“真空镀膜机及调试方法”，公开号CN202410427530.8，申请日期为2024年4月。

专利摘要显示，本发明公开了真空镀膜机及调试方法，其中真空镀膜机包括：镀膜室、等离子体发生组件、至少两组光检测探头、光谱仪和控制器，镀膜室设有待镀膜位和沿第一方向的镀膜输送线，镀膜输送线经过待镀膜位，以输送基片经过待镀膜位，并镀膜至基片的表面；等离子体发生组件连通于镀膜室，设有沿第二方向朝向于待镀膜位的等离子体流道，等离子体流道于待镀膜位形成沿第三方向的镀膜区；沿第三方向间隔分布的至少两组光检测探头，光检测探头用于检测等离子体流道内的等离子体发出的混合辉光；光谱仪光连接于光检测探头，用于根据混合辉光获得光谱数据；控制器电连接于光谱仪，用于接收并处理光谱数据，并得到等离子体组成比例。

本文源自：金融界

作者：情报员