半导体需求H2回温 晶呈科摩拳擦掌

晶呈科表示，一厂已完成C4F6二级制造设备建置，目前送样中，今年将陆续出货。二厂规划四级制造生产氟氮（F2／N2）也已完成，出货将依客户需求而定。至于Stripper目前客户需求正向，目标今年填满产能。

晶呈科受半导体市况不佳影响，去年营运333目标仅达成毛利率与先进制程占比目标水准。市场预期，今年半导体需求逐步回温，有助带动出货动能，搭配利基布局发酵，营运加速推进。

晶呈科去年前三季每股税后纯益（EPS）2.49元。大陆成熟制程需求预期不会激烈增长，但仍会稳定成长；国内市场因以供应先进制程客户为主，需求仍具支撑。

晶呈科指出，特殊气体制造技术层次分为四个等级，难度由高到低分别为一级合成、二级纯化、三级混气／转充填、四级微量分析及特殊部件设计组装。公司已具备二至四级能力，正朝向高难度的一级制造迈进。

晶呈科一厂全品项可生产四级制造产品，目前已完成C4F6二级制造设备建置，订单能见度达产能80％；二厂规划生产氟氮已准备量产，Stripper（去光阻液）已开发出12个品项，有超过双位数客户洽谈样品测试，有望于今年发酵。